在场景中放置一个点光源，设为Mobility设为static，勾选Use Inverse Square Falloff；开启Volumetric Lightmaps可视化，烘焙光照。烘焙完成之后调查点光源位置和Volumetric Lightmap 的某一个Probe位置重叠，会出现过曝的问题。这是什么原因? 有办法解决或者绕开这个问题吗？[Image Removed]
重现步骤
试试GPU Lightmass；我本地CPU的的确问题，GPU的OK
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感谢回复！我尝试了GPULightmass，确实没有这个问题。不过考虑到GPULightmass不能分布式烘焙，加上我们尝试了大场景烘焙时会卡住了，目前还是无法切换到GPULightmass。请问CPU Lightmass后续会有修复计划吗？
问了圈，Cpu lightmass大概率不会再维护了，有问题的话可能要自己修。我转给同事看下是否有想法。
关于GPU lightmass的速度理论上是和使用了分布式的CPU lightmass看齐的。卡住有些GPU的设置，还有和显存也有相关，另外支持SLI，具体有些文档。