当场景中存在大量 materialInstanceConstant 时，Nanite 在 BasePass 中消耗较高，大量被剔除掉的物体对应的材质还是进行了 DispatchIndirect API 的调用，并且通过 PIX 截取之后发现，这些 IndirectArg 为 (0, 1, 1) 的 event 耗时居然和真正被绘制的 event 耗时相差不大，这就导致了在材质较为复杂，数量比较大的时候，这部分耗时是不可忽略的并且占用了大部分 GPU 时间，有什么方法可以提前对 material 进行剔除从而优化最终 shading bin 数量吗？
Hi,
你好，这个问题也是我们已知的问题，PC平台虽然有WorkGraph，但是因为其自身性能目前还不佳，所以没有做到类似主机上跳过空IndirectDispatch的功能，而且在PC平台大部分GPU，CS的空IndirectDispatch比Graphic的耗时更加严重，所以问题比较明显。我们尝试过用D3D12的Predication来跳过空dispatch，但是好像不是所有GPU Vendor都有同样的效果，所以这个方案也不算很有效。
不够我们最近在利用Bindless来减少MaterialInstance造成的Raster Bin和Shading Bin的数量，目前只是初步做了验证，CitySample上，Dispatch的数量从3600左右降到了200左右，性能上也有明显的提升（不同视角下表现不同，但0.5ms是正常的）。不过这个改动可能要到5.8的版本才能完成。如果需要，可以等段时间再联系我，我可以看看是否提交。
感谢回复~
我们目前测试 RTX2060 系列显卡 Nanite 的性能非常差，尤其是地形相关，想请问目前对于中配机型的渲染方案有什么建议，是否建议开启 nanite？
此外我们还发现： 在中低配机（2060）启用时域抗锯齿（如TSR ,DLSS等后），引入的jitter 会导致 VisBuffer::PostPass 以及 NaniteBasePass 有异常的消耗提升，不知道你们目前有没有在处理呢？
一般情况下，如果资产使用适合Nanite（都是Opaque材质，没有WPO，没有Mask），在Drawcall数量比较多的情况下，使用Nanite应该都会有正向收益，但是如果场景中比如Mask和WPO材质的Nanite资产比较多，或者有之前提到的大量空Dispatch的情况，可能目前确实不适合用Nanite。
引入的jitter 会导致 VisBuffer::PostPass 以及 NaniteBasePass这种情况我暂时没有感知到，jitter理论上应该只是对相机做了像素级的偏移，我不确定为什么会有消耗的提升（HZB culling失败？），我目前没有合适的设备测试，不知道能否在2080 ti设备上，提供一个复现的工程或者步骤，我可以尝试验证一下。