项目中,当模型在移动端使用mobile min lod设置4的时候,UE针对带lod的物体的烘焙,精度逐级递减;因此,lod4的lightmap精度很低。
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如果lod无法复用2U的话,有没有其他办法能够提升低lod的lightmap质量?
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项目中,当模型在移动端使用mobile min lod设置4的时候,UE针对带lod的物体的烘焙,精度逐级递减;因此,lod4的lightmap精度很低。
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如果lod无法复用2U的话,有没有其他办法能够提升低lod的lightmap质量?
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您好
您的问题主要是Lod4时,如何提升Lightmap的质量?没有太理解“Lod无法复用2U”的意思。如果我理解错的话,还请告诉我。
在移动设备性能受限的情况下,做到性能和画面效果之间的平衡确实是个挑战。Lod逐级递增,Lightmap的精度会逐级降低,这样收益就是性能的消耗也会逐级减少。
在UE引擎中,我们是可以自己控制相应的Lightmap的精度的。这里有一些Epic的官方链接,里面有些操作细节,希望会对您有所帮助。
不确定您的项目的具体情况,不知道是不是使用UE自动生成的Lod,如果是的话Lightmap的表现会较为准确。如果不是的话,可能需要手动调整。建议您可以通过Lightmap density的视图模式来进行检查。
针对不同的模型,如果这个模型在整个空间中显的比较大。Lod4时应该已经是低多边形了。则可以考虑为其设置较高的光照贴图分辨率(Lightmap resolution)。反之亦然。移动设备通常无法使用过大的Lightmap,但小幅增加(例如 128→256)可以在不显著影响性能的情况下提高阴影质量。当然,这也是内存消耗和画面效果之间的一种平衡。如果一个模型的一部分有问题,则需要检查相应的UV贴图。特别是如果Lightmap上有接缝现象,就需要检查一下模型的UV了。
总之,对于Lightmap的质量,该模型的光照贴图分辨率(Lightmap resolution),以及相应的合适的UV贴图是关键因素。当然,这只是Lod和Lightmap之间的关联内容。如果您有进一步的问题,欢迎与我联系。谢谢。
Henry Liu
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